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Attolight AG將參加CAM-Workshop 2025研討會

作者:北京正通遠(yuǎn)恒科技有限公司閱讀量:


Attolight AG將于2025年5月21日至22日參加在德國哈雷舉辦的CAM Workshop 2025研討會并作報告,報告題目為“利用陰極發(fā)光技術(shù)對化合物半導(dǎo)體中的缺陷進(jìn)行表征”。該演講報告將探討Attolight公司先進(jìn)的陰極發(fā)光技術(shù)如何能夠精確識別和分析化合物半導(dǎo)體材料中的缺陷,這對于研究和工業(yè)流程優(yōu)化都至關(guān)重要。

演講人:Marc Fouchier-Attolight
演講時間:2025年5月21日上午11點(diǎn)
演講地點(diǎn):德國哈雷的萊布尼茨國際應(yīng)用數(shù)學(xué)與計算數(shù)學(xué)研究所
CAM-Workshop 2025研討會匯聚了來自學(xué)術(shù)界和工業(yè)界的相關(guān)分析、先進(jìn)顯微鏡以及材料科學(xué)領(lǐng)域的頂尖專家。Attolight非常榮幸收到演講邀請,將展示其在推動半導(dǎo)體表征的混合分析解決方案前沿發(fā)展方面所發(fā)揮的作用。
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